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Growth of carbon structures through lowpressure chemical vapor deposition

Crecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presión

dc.creatorVarela-Fonseca, Stephanie Mariela
dc.creatorHernández-Murillo, Camila
dc.creatorMontero-Zeledón, Ernesto
dc.creatorGutiérrez-Fallas, Dionisio
dc.creatorUrcuyo, Roberto
dc.creatorPuente-Urbina, Allen
dc.date2022-09-30
dc.date.accessioned2023-02-16T16:05:32Z
dc.date.available2023-02-16T16:05:32Z
dc.identifierhttps://revistas.tec.ac.cr/index.php/tec_marcha/article/view/6067
dc.identifier10.18845/tm.v36i1.6067
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/2238/14124
dc.descriptionCarbon allotropes have gained interest in recent decades due to their properties and the wide variety of possible technological applications they have demonstrated. For such reasons, obtaining these allotropes with different properties and coverage is extensively investigated. Chemical Vapor Deposition (CVD) is one of the most widely used techniques to obtain this type of materials with high quality and coverage in a controlled manner. In CVD, there are used transition metals as catalysts, gaseous carbon sources and high temperatures. In this report, carbon-on-copper structures were synthesized using Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) with acetylene as a carbon source. The copper substrates were heat-treated under a reducing hydrogen-argon atmosphere and then exposed to acetylene, varying the acetylene flow and the deposition time. The resulting materials were characterized by Optical Microscopy and Raman Spectroscopy. The approach followed allowed to determine the best conditions for the synthesis of monolayer graphene with irregular growth.en-US
dc.descriptionLos alótropos de carbono han ganado interés en las últimas décadas debido a sus propiedades y a la gran variedad de posibles aplicaciones tecnológicas que han demostrado. Por dichas razones, la obtención de estos alótropos con diferentes propiedades y coberturas es ampliamente investigado. La Deposición Química en Fase de Vapor (CVD, por sus siglas en inglés) es una de las técnicas más utilizadas para obtener este tipo de materiales con una alta calidad y cobertura en una forma controlada. En CVD, se utilizan metales de transición como catalizadores, fuentes de carbono gaseosas y altas temperaturas. En este reporte, se presentan estructuras de carbono sintetizadas sobre substratos de cobre utilizando Deposición Química en Fase de Vapor a Baja Presión (LPCVD, por sus siglas en inglés) con acetileno como fuente de carbono. Los sustratos de cobre se trataron térmicamente bajo una atmósfera reductora de hidrógeno-argón y luego se expusieron a acetileno, variando el flujo de acetileno y el tiempo de deposición. Los materiales resultantes se caracterizaron mediante Microscopía Óptica y Espectroscopia Raman. El enfoque seguido permitió determinar las mejores condiciones de síntesis de grafeno monocapa, de crecimiento irregular.es-ES
dc.formatapplication/pdf
dc.formattext/html
dc.languagespa
dc.publisherEditorial Tecnológica de Costa Rica (entidad editora)es-ES
dc.relationhttps://revistas.tec.ac.cr/index.php/tec_marcha/article/view/6067/6186
dc.relationhttps://revistas.tec.ac.cr/index.php/tec_marcha/article/view/6067/6206
dc.rightsDerechos de autor 2022 Revista Tecnología en Marchaes-ES
dc.rightshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0es-ES
dc.sourceTecnología en marcha Journal; 2022: Vol. 35 Núm. 4: Octubre-Diciembre 2022; Pág. 57-70en-US
dc.sourceRevista Tecnología en Marcha; 2022: Vol. 35 Núm. 4: Octubre-Diciembre 2022; Pág. 57-70es-ES
dc.source2215-3241
dc.source0379-3982
dc.subjectChemical Vapor Deposition (CVD)en-US
dc.subjectLow-Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD)en-US
dc.subjectCarbonen-US
dc.subjectGrapheneen-US
dc.subjectRaman Spectroscopyen-US
dc.subjectDeposición Química en Fase de Vapor (CVD)es-ES
dc.subjectDeposición Química en Fase de Vapor a Baja Presión (LPCVD)es-ES
dc.subjectCarbonoes-ES
dc.subjectGrafenoes-ES
dc.subjectEspectroscopia Ramanes-ES
dc.titleGrowth of carbon structures through lowpressure chemical vapor depositionen-US
dc.titleCrecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presiónes-ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion


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