The aim of this project is to measure the photocatalytic activity of titanium oxides thin layers deposited by reactive magnetron sputtering method. The coatings were deposited onto silicon substrates in gas misxture of Ar and O2 and as target was used pure titanium. Chemical composition of coatings was varied by change of O2 flow. As results, it was obtained a chemical composition Ti1-xOx where x is from 0,25 to 0,45. According to the adhesion scratch test, the lowest critical load was 14,43 N and highest was 72,01 N. Results from photocatalytic activity indicates that the samples were not active due to the acid orange in which they were submerge presented no change of color after the UV light exposition.El objetivo de este proyecto es medir la actividad fotocatalitica de capas delgadas de óxidos de Titanio depositadas por Pulverización Catódica con Magnetrón. Los recubrimientos se depositaron en sustratos de silicón utilizando una mezcla de gases Ar – O2 y titanio puro como target. Como resultados, se obtuvo una composición química de Ti1-xOx donde x varía de 2,25 a 0,45. De acuerdo a los resultados de las pruebas de Adhesión, la carga mínima obtenida fue de 14,43 N mientras que la mayor fue de 72,01 N. Los resultados de las pruebas para la actividad fotocatalítica mostraron que las muestras no eran reactivas ya que no se obtuvo un cambio de color en el ácido naranja, sustancia en la cual fueron sumergidas, luego de que las muestras estuvieran expuestas a la luz ultravioleta.